PROPERTIES OF A-SI,GE-H,F ALLOYS PREPARED BY RF GLOW-DISCHARGE IN AN ULTRAHIGH-VACUUM REACTOR

被引:24
作者
KOLODZEY, J [1 ]
ALJISHI, S [1 ]
SCHWARZ, R [1 ]
SLOBODIN, D [1 ]
WAGNER, S [1 ]
机构
[1] PRINCETON UNIV,DEPT ELECT ENGN,PRINCETON,NJ 08544
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 06期
关键词
D O I
10.1116/1.573717
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
收藏
页码:2499 / 2504
页数:6
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