CHARACTER OF DOPED OXYGEN HOLES IN HIGH-TC CU OXIDES

被引:88
作者
FUJIMORI, A
机构
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1989年 / 39卷 / 01期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.39.793
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
收藏
页码:793 / 796
页数:4
相关论文
共 32 条
[31]  
WENDIN G, 1988, J PHYS-PARIS, V48, P1157
[32]  
[No title captured]