共 5 条
HALL-MOBILITY OF TE-DOPED IN1-XGAXP AT 300 K
被引:12
作者:
KATO, T
[1
]
SHIMIZU, A
[1
]
ISHIDA, T
[1
]
机构:
[1] YAMANASHI UNIV,FAC ENGN,DEPT ELECTR ENGN,KOFU 400,JAPAN
关键词:
D O I:
10.1143/JJAP.13.1481
中图分类号:
O59 [应用物理学];
学科分类号:
摘要:
引用
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页码:1481 / 1482
页数:2
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