PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF TUNGSTEN

被引：6

作者：

MAHOWALD, MA

IANNO, NJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(89)90625-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：91 / 97

页数：7

共 9 条

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