PLASMA-ETCHING CHARACTERISTICS OF SPUTTERED MOSI2 FILMS

被引：20

作者：

CHOW, TP ^{[1
]}

STECKL, AJ ^{[1
]}

机构：

[1] RENSSELAER POLYTECH INST,DEPT ELECT & SYST ENGN,TROY,NY 12181

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.91967

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：466 / 468

页数：3

共 7 条

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