ULTRAVIOLET-OZONE CLEANING OF SILICON SURFACES STUDIED BY AUGER-SPECTROSCOPY

被引：29

作者：

KRUSOR, BS ^{[1
]}

BIEGELSEN, DK ^{[1
]}

YINGLING, RD ^{[1
]}

ABELSON, JR ^{[1
]}

机构：

[1] STANFORD UNIV,STANFORD ELECTR LABS,STANFORD,CA 94305

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584436

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：129 / 130

页数：2

共 3 条