EPITAXIAL P-TYPE GERMANIUM AND SILICON FILMS BY THE HYDROGEN REDUCTION OF GEBR4, SIBR4, AND BBR3

被引：21

作者：

MILLER, KJ

GRIECO, MJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2425635

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1252 / 1256

页数：5

共 30 条

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