SPUTTERING OF BATIO3 THIN FERROELECTRIC-FILMS

被引：12

作者：

SCHAFER, H ^{[1
]}

SCHMITT, H ^{[1
]}

EHSES, KH ^{[1
]}

KLEER, G ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV SAARLAND,FACHRICHTUNG KRISTALLOG 17,D-6600 SAARBRUCKEN,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1080/00150197808237396

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：775 / 777

页数：3

共 8 条

[1]

DANIELS J, 1976, PHILIPS RES REP, V31, P487

[2]

MUKHORTOV VM, 1975, IAN SSSR NEORG MATER, V11, P2010

[3] ELECTRICAL-PROPERTIES OF SPUTTERED BARIUM-TITANATE FILMS [J].

SCHAFER, H ;

SCHMITT, H .

[4]

SCHAFER H, UNPUBLISHED

SHINTANI, Y ;

NAKANISHI, K ;

TAKAWAKI, T ;

TADA, O .

SPENCE, W ;

MILLER, PM ;

WU, N .

[7]

SUJIBUCHI K, 1975, J APPL PHYS, V48, P7

[8]

Tomashpol'skii Yu. Ya., 1975, Soviet Physics - Crystallography, V19, P644