HIGH-TEMPERATURE HIGH-PURITY SOURCE FOR METAL BEAM EPITAXY

被引:13
作者
FARROW, RFC
WILLIAMS, GM
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(78)90062-7
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:13
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