脉冲激光沉积PMN-PT薄膜及其性能研究

被引：2

作者：

童杏林

姜德生

刘恋

刘忠明

机构：

[1] 武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室

来源：

光子学报 | 2008年 / 03期

关键词：

PMN-PT薄膜; 脉冲激光沉积; 结构; 光学特性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN304 [材料];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

以较低温度烧结获得的PMN-PT块材料为靶,采用脉冲激光沉积方法在石英衬底上制备了PMN-PT薄膜,研究了后续退火处理对PMN-PT薄膜的结构及光学特性的影响.结果显示,采用脉冲激光沉积可获得质量较好的钙钛矿结构的PMN-PT薄膜,优化的后续退火温度大约在550℃～750℃之间.

引用

页码：494 / 497

页数：4

共 5 条

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