改进型XC502低压甲醇合成催化剂的研究 Ⅱ.催化剂的活性位

被引：1

作者：

杨意泉

林仁存

戴深峻

方钦和

张藩贤

张鸿斌

机构：

[1] 厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室

来源：

天然气化工 | 1998年 / 03期

关键词：

甲醇合成,低压铜基催化剂,XPS－Auger,XRD,FTIR活性位;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ032 [催化反应过程];

学科分类号：

081705 ;

摘要：

采用ＸＰＳ－Ａｕｇｅｒ、ＸＲＤ和ＦＴＩＲ等方法，对５组分Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ－Ｍ１－Ｍ２改进ＸＣ５０２铜基低压甲醇合成催化剂进行了表征。ＸＰＳ－Ａｕｇｅｒ结果表明，ＸＣ５０２催化剂出现主峰为３３６．４ｅＶ（Ｃｕ＋），而Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂主峰为３３４．９ｅＶ（Ｃｕ０）；ＸＲＤ结果表明，两种工作态催化剂比氧化态新增峰的２θ分别为３６．５°（Ｃｕ＋）和４３．３°（Ｃｕ０），ＸＣ５０２催化剂这两峰的强度比Ｉ３６．５／Ｉ４３．３是Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂的２．１倍，说明工作态ＸＣ５０２催化剂单位Ｃｕ０中的Ｃｕ＋含量比Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂多；ＦＴＩＲ谱显示，ＸＣ５０２和Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ两种工作态催化剂新增波数分别为６２２ｃｍ－１和６２７ｃｍ－１的振动峰，此新增峰可能是Ｃｕ＋－Ｏ或Ｃｕ＋－Ｏ－Ｚｎ２＋的振动峰。改进型铜基甲醇合成催化剂的活性位可能是Ｃｕ０－Ｃｕ＋－Ｏ－Ｚｎ２＋／Ａｌ２Ｏ３－ＭＯｘ。

引用

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共 3 条

[1]

工业催化原理.[M].李玉敏编著;.天津大学出版社.1992,

[2] 低压铜基甲醇含成催化剂活性表面的XPS和TPD表征 [J].