SiO2、Al2O3上涂载TiO2、ZrO2、La2O3制备Pd

被引：2

作者：

谭猗生，郭志英，宋丽萍，陆大勋，亢茂青，张玉珍

机构：

[1] 中国科学院山西煤炭化学研究所

来源：

燃料化学学报 | 1994年 / 03期

关键词：

涂层载体，XPS（XRD）表征，单层分散阈值，Pd催化剂制备。;

D O I：

暂无

中图分类号：

O643.3 [催化];

学科分类号：

081705 ;

摘要：

采用浸渍法制备了Ｌａ＿２Ｏ＿３、ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２以单层状态分散在ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３上的改性载体。用ＸＰＳ求得它们的最大单层分散阈值为：０．２２ｇＬａ＿２Ｏ＿３／１００ｍ￣２ＳｉＯ＿２，０．２７ｇＬａ＿２Ｏ＿３／１００ｍ￣２，０．０４ｇＴｉＯ＿２／１００ｍ￣２ＳｉＯ＿２，０．０３６ｇＴｉＯ＿２／１００ｍ￣２Ａｌ＿２Ｏ＿３，０．０７ｇＺｒＯ＿２／１００ｍ￣２ＳｉＯ＿２，０．０８ｇＺｒＯ＿２／１００ｍ￣２Ａｌ＿２Ｏ＿３。Ｌａ＿２Ｏ＿３可以完全铺满ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３载体表面，而ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２仅仅覆盖ＳｉＯ＿２（Ａｌ＿２Ｏ＿３）表面的４０％及５０％。在以涂层氧化物为载体的Ｐｄ催化剂制备过程中，通过ＸＰＳ的氩离子刻蚀技术，确定了Ｐｄ分布在以ＳｉＯ＿２（Ａｌ＿２Ｏ＿３）为骨架的涂层氧化物的表面上，与Ｌａ＿２Ｏ＿３、ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２在ＳｉＯ＿２（Ａｌ＿２Ｏ＿３）骨架上的分布基本一致，没有进入ＳｉＯ＿２（Ａｌ＿２Ｏ＿３）晶格内部。ＸＲＤ衍射图则说明在Ｐｄ催化剂配制过程中，ＴｉＯ＿２、ＺｒＯ＿２、Ｌａ＿２Ｏ＿３没有形成结晶相，也没有与ＳｉＯ＿２（Ａｌ＿２Ｏ＿３）发生反应，仍以单层分散形式存在

引用

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