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Si3N4/TiN纳米多层膜的超硬效应
被引：4
作者：
许俊华
顾明元
李戈扬
金燕苹
机构：
[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海
来源：
关键词：
Si3N4/TiN;
纳米多层膜;
显微硬度;
微结构;
D O I：
10.16183/j.cnki.jsjtu.2000.03.014
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
采用磁控反应溅射工艺制备了Si3N4/TiN陶瓷纳米多层膜,运用X射线衍射、透射电镜和显微硬度仪等对纳米多层膜的微结构、应力状态和硬度进行测试.研究结果表明,Si3N4/TiN多层膜中,Si3N4层为非晶态,TiN层为晶态.Si3N4/TiN多层膜的显微硬度既受调制周期Λ的影响,同时又与调制比有关.当调制比lSi3N4/lTiN=3和调制周期Λ=12.0nm左右时,多层膜的显微硬度达到最大值,其数值比用混合法则计算的值高40%以上.根据实验结果,还提出了该体系出现超硬效应的机制
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