用电子束蒸发法低温无损情况下在有机柔性衬底上制作ITO膜及其性能研究

在有机材料柔性衬底上沉积ITO膜 ,需要在低温及无损伤 (即避免离子轰击及热损伤等 )情况下进行。为满足此要求 ,采用电子束蒸发法来实现在PI衬底上沉积ITO膜 ,对沉积参数如电子束特性、氧分压及衬底温度对薄膜质量的影响进行了研究 ;对薄膜结构、表面形貌、电学及光学特性进行了检测。最后 ,在PI衬底上获得高质量ITO膜 ,其可见光透过率超过90 % ,电阻率低于 5× 10 -4Ω·cm。