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Nb3Ge超导薄膜化学组份的X射线荧光光谱法非破坏快速测定
被引:4
作者
:
吴长存
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机构:
北京有色金属研究总院
吴长存
郝贡章
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北京有色金属研究总院
郝贡章
许佩珍
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北京有色金属研究总院
许佩珍
李明洁
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机构:
北京有色金属研究总院
李明洁
机构
:
[1]
北京有色金属研究总院
来源
:
稀有金属
|
1983年
/ 04期
关键词
:
超导薄膜;
化学组份;
Nb3Ge;
面密度;
荧光光谱;
D O I
:
10.13373/j.cnki.cjrm.1983.04.016
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文以 X 射线荧光光谱法薄样原理为依据,采用人工合成滤纸片薄样标准,直接测定 Nb3Ge超导薄膜的化学组份。并根据通用薄层判据,估算薄膜厚度的影响。Nb3Ge 超导薄膜厚度在不大于1微米即试样面密度不大于800微克/厘米2范围内,方法的相对标准偏差优于1%。
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