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β——SiC晶须的合成及生长机理
被引:1
作者:
马峻峰
机构:
[1] 山东工业陶瓷研究设计院
来源:
关键词:
生长机理;
晶须;
须晶;
SIC;
SiC;
D O I:
暂无
中图分类号:
学科分类号:
摘要:
以高岭土、超细碳粉为原料,采用碳热还原方法合成出性能良好的β—SiC晶须,并研究了碳粉加入量、烧成温度对β—SiC晶须产率的影响。结果表明,烧成温度1500~1600℃,碳粉加入量4~10%(wt)为较好的晶须合成条件。该方法制备β—SiC晶须的生长机理为“VS”机理。
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