β——SiC晶须的合成及生长机理

被引:1
作者
马峻峰
机构
[1] 山东工业陶瓷研究设计院
关键词
生长机理; 晶须; 须晶; SIC; SiC;
D O I
暂无
中图分类号
学科分类号
摘要
以高岭土、超细碳粉为原料,采用碳热还原方法合成出性能良好的β—SiC晶须,并研究了碳粉加入量、烧成温度对β—SiC晶须产率的影响。结果表明,烧成温度1500~1600℃,碳粉加入量4~10%(wt)为较好的晶须合成条件。该方法制备β—SiC晶须的生长机理为“VS”机理。
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KARASEK, KR ;
BRADLEY, SA ;
DONNER, JT ;
MARTIN, MR ;
HAYNES, KL ;
YEH, HC .
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE, 1989, 24 (05) :1617-1622
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MILEWSKI, JV ;
GAC, FD ;
PETROVIC, JJ ;
SKAGGS, SR .
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE, 1985, 20 (04) :1160-1166