软X射线投影光刻技术

被引：7

作者：

金春水

王占山

曹健林

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

[2] 应用光学国家重点实验室!长春

来源：

强激光与粒子束 | 2000年 / 05期

关键词：

软X射线; 投影光刻; 集成电路;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 .1μm的集成电路制造技术 ,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视。随着用于软 X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶、精密扫描机构等关键技术均取得了突破

引用

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