离子束辅助沉积薄膜工艺

被引：21

作者：

王利 ^{[1
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程鑫彬 ^{[1
]}

王占山 ^{[1
]}

唐骐 ^{[2
]}

范滨 ^{[2
]}

机构：

[1] 同济大学物理系精密光学工程技术研究所

[2] 光驰株式会社

来源：

红外与激光工程 | 2007年 / 06期

关键词：

离子束清洗; 离子束辅助沉积; 离子能量传递;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则。

引用

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