定向离子清洗对基片表面性质的影响

被引:12
作者
张大伟
张东平
范树海
邵建达
王英剑
范正修
机构
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心
[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜研究与发展中心 上海
[3] 上海
关键词
薄膜; 离子清洗; 离子源; 粗糙度;
D O I
暂无
中图分类号
O484 [薄膜物理学];
学科分类号
080501 ; 1406 ;
摘要
为提高高功率激光薄膜的抗激光损伤能力,研究了定向离子清洗对玻璃基片表面性质的影响。用End-Hall型离子源在不同清洗参数下对K9玻璃基片进行了清洗,用光学显微镜验证了基片的二次污染和离子的清洗效果,用静滴接触角仪测量了基片在离子清洗前后对水滴的接触角,用原子力显微镜和轮廓仪分别观测了不同参数的离子清洗前后的基片表面形貌和粗糙度,分析了基片清洗后表面性质如清洁、表面能、接触角、表面粗糙度、表面形貌的变化机理。研究表明定向离子清洗可有效去除二次污染、增加基片表面能、控制基片表面粗糙度和表面形貌,是一种有效改善基片表面性质的处理方法。
引用
收藏
页码:1473 / 1477
页数:5
相关论文
共 7 条
[1]   化学清洗对玻璃表面层光学特性的影响 [J].
顾铮■ ;
梁培辉 ;
张伟清 .
中国激光, 2004, (03) :367-370
[2]   提高氧化物介质膜层损伤阈值的研究 [J].
刘强 ;
林理彬 ;
蒋晓东 ;
黄祖鑫 ;
甘荣兵 ;
唐方元 .
中国激光, 2003, (07) :637-641
[3]   用于辅助镀膜的霍尔等离子体源 [J].
尤大伟 ;
黄小刚 ;
武建军 .
光学仪器, 2001, (Z1) :58-62
[4]   等离子清洗技术 [J].
张国柱 ;
杜海文 ;
刘丽琴 .
机电元件, 2001, (04) :31-34
[5]   薄Si膜对基底表面粗糙度的影响 [J].
邵建达,范正修,易葵,王润文 .
中国激光, 1996, (09) :801-805
[6]   激光处理对光学薄膜和激光玻璃损伤的影响 [J].
李仲伢,李成富,龚辉 .
光学学报, 1994, (03) :281-286
[7]  
薄膜技术[M]. 浙江大学出版社 , 顾培夫编著, 1990