薄Si膜对基底表面粗糙度的影响

被引:8
作者
邵建达,范正修,易葵,王润文
机构
[1] 中国科学院上海光机所
关键词
均方根粗糙度,ZYGO光学干涉测量,Si膜;
D O I
暂无
中图分类号
O484.4 [薄膜的性质];
学科分类号
080501 ; 1406 ;
摘要
利用ZYGO光学干涉测量仪,散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度.详细分析了薄Si膜对基底均方根粗糙度的影响,由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度,结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象.提出了一定厚度范围的薄Si膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想.
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共 1 条
[1]   制备软X光多层膜的转速控厚法 [J].
邵建达 ;
范正修 ;
金磊 ;
郭永洪 .
中国激光, 1991, (03) :171-175