高折射率材料吸收特性对193nmHfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2多层膜反射特性的影响

被引：3

作者：

袁景梅

汤兆胜

易葵

邵建达

范正修

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心

[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心上海

[3] 上海

[4] 上海

来源：

中国激光 | 2004年 / 12期

关键词：

薄膜; 折射率; 消光系数; 吸收系数;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。

引用

页码：1469 / 1472

页数：4