共 4 条
非理想参数下193nm光学薄膜的设计
被引：10
作者：
袁景梅
易葵
齐红基
范正修
邵建达
机构：
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心
[2] 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心 上海
[3] 上海
来源：
关键词：
薄膜技术;
193nm光学薄膜;
光刻机;
消光系数;
水吸收;
表面粗糙度;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
193nm光学薄膜是 10 0nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明 ,要镀制出反射率大于98 5 %的高反膜 ,必须将高折射率材料的消光系数k控制在 0 0 0 34以内 ,同时膜层表面的粗糙度σ控制在 1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响 ,要减少膜层水吸收的影响 ,就必须提高薄膜的致密度 ,采用离子成膜技术 ,或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下 ,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜 ,并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因
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