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薄膜技术.[M].顾培夫编著;.浙江大学出版社.1990,
离子辅助沉积对Nb2O5薄膜特性的影响
被引：3
作者：
张德景
李明宇
顾培夫
机构：
[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
[2] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州
[3] 浙江杭州
来源：
关键词：
Nb2O5薄膜;
离子辅助沉积;
聚集密度;
附着力;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较.由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14%,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1.0×107N/m2提高到129.7×107N/m2.
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页数：4
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