极紫外多层膜制备工艺研究

被引：8

作者：

王占山

马月英

机构：

[1] 同济大学物理系

[2] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所上海

[3] 吉林长春

来源：

关键词：

极紫外; 多层膜; 磁控溅射;

D O I：

10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2001.06.024

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

介绍了用平面磁控溅射方法制备极紫外多层膜的研究工作。围绕极紫外多层膜技术 ,重点探讨了多层膜膜厚定标和工艺过程对多层膜结构和内部成分的影响。为深入研究多层膜制备工艺指明了方向。

引用

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