纳米二氧化硅粉体的制备

被引：7

作者：

刘立泉

何永

张崇

李大成

机构：

[1] 成都蜀都电子粉体材料厂!四川成都

来源：

电子元件与材料 | 2000年 / 04期

关键词：

二氧化硅; 纳米材料; 粉体制备;

D O I：

10.14106/j.cnki.1001-2028.2000.04.013

中图分类号：

TB44 [粉末技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

以工业硅酸钠和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅。工艺条件为 :温度 2 5～ 35℃、p H值 4～ 6、反应液质量浓度 1.15 g/ L、反应时间 10 min,添加一定量表面活性剂和分散剂。制得的二氧化硅 ,粒径 40～ 5 0 nm、比表面积大、分散性好、质量优良 ,已用于工业生产。

引用

页码：28 / 32+47 +47

页数：3

共 4 条

[1] 合成条件对介孔氧化硅材料孔径尺寸的影响 [J].

王连洲 ;

禹剑 ;

施剑林 ;

严东生 .

硅酸盐学报, 1999, (01) :3-5

[2] 沉淀法合成高比表面积超细SiO2 [J].

王子忱 ;

王莉玮 ;

赵敬哲 ;

杨广丽 ;

杨烨 ;

赵慕愚 .

无机材料学报, 1997, (03) :391-396

[3] Sol-gel工艺制备二氧化硅超微细粉及其机理的研究 [J].

佘家国 ;

张联盟 ;

童兵 ;

程蓓 .

硅酸盐通报, 1992, (03) :43-48

[4]

Adsorption syudy of surface and structural properties of MCM-41 materials .2 Kruk M,Jaroniec M,Sayari A. J Phys Chem B . 1997

← 1 →