氧化物超导簿膜的成型技术

被引:2
作者
李淑琴
杨彩炳
李羲之
曹效能
时贤庆
许维源
黄晓梅
机构
[1] 中国科学院电子学研究所
关键词
超导膜; 红外探测元件; 曲折线; 成型方法; 剥离工艺; 线条; 膜表面; 成型过程; 国画技法; 超导薄膜; YBCO; 成型技术;
D O I
10.16711/j.1001-7100.1990.01.008
中图分类号
学科分类号
摘要
本文介绍了Y-Ba-Cu-O(YBCO)高Tc超导膜的两种成型方法:化学湿法刻蚀和剥离光刻技术。在化学蚀刻方法中,发现腐蚀液H3PO4/H2O的腐蚀速率R与浓度γ的关系可粗略地描述为R(?)γ(γ≤50%),通过选择合适的溶液浓度,腐蚀速率较容易调整,在适当的腐蚀条件下,侧向腐蚀很小。剥离工艺不仅适合于加工细线条,还可以避免成型过程对膜表面的污染及减小对超导性能的影响。这两种方法已成功地应用于高Tc超导薄膜的红外探测器的制作。
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共 1 条
[1]   单层胶剥离工艺及其应用 [J].
李淑琴 .
半导体技术, 1988, (02) :24-26+23