Au/SiO2纳米复合型材料的光吸收性质

被引：2

作者：

王勤诚 ^{[1
]}

俞国庆 ^{[2
]}

机构：

[1] 宁波大学理学院物理系

[2] 新加坡南洋理工大学电子工程学院

来源：

光学学报 | 2006年 / 05期

关键词：

纳米复合薄膜; 光吸收; 离子束溅射-沉积工艺; Au-SiO2;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

在室温下用离子束溅射沉积工艺在石英基材上生成Au-SiO2复合薄膜。把生成薄膜从500～900℃(分别保温5 min)分五个不同温度进行退火处理。用X光衍射方法(XRD)对薄膜结构进行了测试,得到Au-SiO2纳米复合薄膜未退火(as-dep)和退火后的X射线衍射谱;透射电子显微镜(TEM)观察了经过700℃退火处理复合薄膜中Au粒子在薄膜中分布状态和颗粒大小。用分光计测试薄膜光吸收特性,吸收光谱范围为190～1000 nm,发现退火温度从500～700℃,光谱吸收峰有明显红移存在,而在更高温度吸收峰的位置和强度几乎都不变。这与X射线衍射检测吻合。并用德鲁特(Drude)模型给于理论解释。

引用

页码：783 / 786

页数：4

共 3 条

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