全球光刻机发展概况以及光刻机装备国产化

被引：10

作者：

张霞

刘宏波

顾文

周细应

于治水

机构：

[1] 上海工程技术大学材料工程学院

来源：

无线互联科技 | 2018年 / 15卷 / 19期

关键词：

光刻; 光刻设备; 装备; 国产化;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

文章以光刻原理为引子,介绍光刻设备的系统结构,解读光刻机行业的发展概况,重点介绍光刻机装备国产化的发展之路,最后,文章提出中国半导体装备业国产化的顶层设计框架。

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页数：3

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