不同沉积速率下热蒸发银膜的光学性能和结构分析

被引：11

作者：

卢宝文 ^{[1
,2
]}

徐学科 ^{[1
]}

余祥 ^{[1
]}

范正修 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料科学与技术重点实验室

[2] 中国科学院研究生院

来源：

光学学报 | 2010年 / 30卷 / 01期

关键词：

薄膜光学; 银膜; 沉积速率; 结构分析;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

实验分别采用5种不同的沉积速率(0.44,0.30,0.18,0.08和0.04nm/s)制备了金属银薄膜,膜系结构为基底/Al2O3/Ag/Al2O3/Air。光谱测试结果表明,沉积速率0.18nm/s的样品具有最高的平均反射率。采用X射线衍射(XRD)仪分析了5个样品的X射线衍射谱。银膜择优取向(111)晶向,0.18nm/s的样品衍射峰强度最大、衍射峰半峰全宽最小、晶粒尺寸最大,说明此沉积速率下结晶程度最高。过快或者过慢的沉积速率会导致银膜结晶程度下降,从而导致平均消光系数增大和反射率下降。在实验条件下,银膜的最佳沉积速率在0.18nm/s附近,此时制备的银膜具备最好的结晶程度和最高的反射率,此结论不同于传统意义上认为热蒸发银膜速率越快,成膜质量越高、光谱特性越好的观点。

引用

页码：283 / 286

页数：4

共 8 条

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