共 3 条
钨粉化学镀铜对W/15Cu电子封装材料性能的影响
被引:9
作者:
吴泓
王志法
姜国圣
崔大田
郑秋波
机构:
[1] 中南大学材料科学与工程学院
来源:
关键词:
化学镀铜;
W/15Cu合金;
电子封装材料;
诱导铜;
熔渗;
D O I:
暂无
中图分类号:
TG174.4 [金属表面防护技术];
学科分类号:
摘要:
采用化学镀铜的方法在钨粉中加入诱导铜,经压型,熔渗后制成W/15Cu合金。用扫描电镜研究了材料的显微结构,并测出合金样品的密度、气密性、热膨胀系数等物理性能,通过与传统工艺制备的W/15Cu合金的显微组织以及物理性能方面做比较,讨论了钨粉化学镀铜对W/15Cu合金性能的影响。结果表明,钨粉化学镀铜对于提高钨生坯成形性能、改善钨铜复合材料的显微组织结构、提高材料物理性能方面都有很大作用。经过综合比较,镀铜含量以2%为宜。
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页码:550 / 553
页数:4
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