红外材料硅透镜加工工艺研究

被引:12
作者
徐岩
李善武
杨新华
陈洪许
机构
[1] 中国空空导弹研究院
关键词
单晶硅; 表面疵病; 精磨; 机械-化学抛光;
D O I
暂无
中图分类号
TN213 [红外光学材料];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
随着红外空空导弹的发展,红外光学材料单晶硅得到了广泛的应用。介绍了单晶硅材料加工透镜的工艺过程,着重研究了硅透镜的抛光技术,通过使用不同的抛光粉及抛光模层材料,找到了加工硅透镜的最佳工艺匹配条件。实验结果表明:使用SiO2胶体配制的抛光液(PH 10 ̄11)及用抛光布制成的抛光模,采用机械-化学方法抛光出的零件表面疵病达到III级(GB1185-74),并能够通过修改抛光模控制光圈及光圈误差,加工出的硅透镜满足导弹光学系统的要求。
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页码:359 / 361+370 +370
页数:4
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稀有金属, 2001, (06) :431-433
[2]   单晶硅片的低温抛光技术 [J].
韩荣久 ;
孙恒德 ;
徐德全 ;
张云 ;
王立江 .
光学精密工程 , 1998, (05) :106-111
[3]  
超精密加工技术[M]. 国防工业出版社 , 庞滔等编, 2000
[4]  
半导体材料[M]. 北京理工大学出版社 , 周永溶编, 1992