非平衡磁控溅射掺Ti类金刚石薄膜的结构分析

被引：9

作者：

聂朝胤

张碧云

谢红梅

机构：

[1] 西南大学材料科学与工程学院

来源：

金属学报 | 2007年 / 11期

关键词：

非平衡磁控溅射; Ti掺杂类金刚石薄膜; 微观结构; 显微硬度; 附着力;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB383.2 [];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ;

摘要：

采用非平衡磁控溅射沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了无氢Ti掺杂类金刚石（Ti-DLC）薄膜和无氢高纯类金刚石（DLC）薄膜,通过调节Ti靶的溅射功率使获得的Ti-DLC薄膜Ti含量（原子分数）为1.9%—34%.利用Raman分光光谱仪、XPS,XRD、显微硬度计及纳米划痕仪分析研究了Ti-DLC的组织结构、显微硬度及薄膜附着力.结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Ti-DLC薄膜,在Ti含量小于25%时,Ti-DLC薄膜仍具有类金刚石薄膜的sp2,sp3结构,但Ti的掺杂促进了sp3键向sp2键的转变.掺杂的Ti以TiC纳米晶的形式存在于非晶态的DLC中.掺杂Ti后薄膜的硬度明显降低,而薄膜附着力明显改善;但是当Ti含量超过3%后,薄膜附着力无明显变化,硬度逐渐回升.

引用

页码：1207 / 1210

页数：4

共 17 条

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