等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究

被引：8

作者：

赵程

彭红瑞

谢广文

李世直

机构：

[1] 青岛化工学院等离子体表面技术研究所!青岛

来源：

真空科学与技术 | 2000年 / 05期

关键词：

TiN涂层; 等离子体化学气相沉积; 后热处理;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2000.05.018

中图分类号：

TG174 [腐蚀的控制与防护];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高 ,涂层的结晶度得到大幅度的改善 ,涂层内的杂质氯含量降低 ,涂层的 (2 0 0 )晶面距减小 ,但在 90 0℃时 ,PCVD TiN涂层的显微硬度有一个最低值

引用

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