光刻投影物镜整体式XY微调整机构设计

被引:2
作者
张德福
孙振
机构
[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
关键词
光刻投影物镜; 位移缩小机构; 完全解耦; 波像差;
D O I
10.13382/j.jemi.2014.07.015
中图分类号
TH703.8 [];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
摘要
针对光刻投影物镜XY补偿镜调整量程小、调整精度高的特点,设计了一种XY微位移并联调整机构。首先,分析圆弧形铰链切口厚度、切口半径和高度对柔度系数的影响,以指导铰链结构设计。接着,基于柔度矩阵法分析了机构各个支链的柔度和整体柔度。最后,计算了机构的输出耦合误差,并将柔度矩阵法得到的理论值和有限元法得到的结果对比。结果表明:机构在±50 N的驱动力范围内,可以实现运动行程±40.997μm,X向调整引入的Y向耦合误差小1%,机构完全解耦。由柔度矩阵法和有限元法得到的机构柔度分别为2.537μm/N和2.934μm/N,偏差为13.531%。50 N调整力作用后的镜片上表面面形未去除power前PV值为2.684 nm,RMS为0.524 nm;去除power后PV值为2.433 Nm,RMS值为0.476 nm,并且面形主要为像散。该机构满足设计指标,符合光刻投影物镜高精度XY补偿要求。
引用
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页码:787 / 794
页数:8
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