Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究

被引：5

作者：

秦俊岭 ^{[1
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邵建达 ^{[1
]}

易葵 ^{[1
]}

周洪军 ^{[2
]}

霍同林 ^{[2
]}

范正修 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室

来源：

强激光与粒子束 | 2007年 / 05期

关键词：

Mo/Si多层膜; 软X射线; 界面粗糙度; 反射率;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律。并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率。研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小。

引用

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