稳定线宽的过曝光控制

被引：1

作者：

梁宜勇 ^{[1
]}

顾智企 ^{[2
]}

章哲明 ^{[3
]}

闫玮 ^{[1
]}

杨国光 ^{[1
]}

机构：

[1] 浙江大学信息科学与工程学院

[2] 浙江大学理学院

[3] 复旦大学数学科学学院

来源：

浙江大学学报(工学版) | 2006年 / 01期

关键词：

过曝光; 高斯光束; 曝光量; 线宽;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

摘要：

在利用激光图形发生器制备微细图形时,为获得稳定的线条宽度,提出一种对薄胶层进行过曝光的技术.准直光束经物镜会聚后光斑的能量呈近似高斯分布,当胶层的曝光量阈值远离高斯型曝光量曲线的头部时,可以弱化线宽对实际曝光量或胶层曝光量阈值等变化的敏感度,从而提高线宽的稳定度.在涂有0.6μm薄胶的基片上,采用渐变曝光量的方法,利用激光束直写技术制取了一组短弧线,对线宽的测试结果表明,线宽与曝光量关系的实验性曲线和理论模型能较好地吻合.过曝光技术对线宽稳定度要求较高的器件,比如具有螺线波导的集成光学陀螺的制作有较重要价值.

引用

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