氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究

被引：11

作者：

李晓莉 ^{[1
,2
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谢方艳 ^{[2
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龚力 ^{[2
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张卫红 ^{[2
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于晓龙 ^{[1
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陈建 ^{[2
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机构：

[1] 海南大学材料与化工学院

[2] 中山大学测试中心

来源：

分析测试学报 | 2013年 / 05期

基金：

广东省自然科学基金;

关键词：

氧化铜; 氩离子刻蚀; X射线光电子能谱; 还原;

D O I：

暂无

中图分类号：

O657.62 [能谱分析];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,通过改变氩离子枪的刻蚀模式,原位研究氩离子刻蚀对氧化铜的还原情况。结果发现在极其微弱的氩离子束流轰击下,CuO即被还原,刻蚀初期变化较大,之后达到稳恒状态。对Cu2p峰拟合,同时结合俄歇CuLMM峰变化,判定纯CuO经氩离子刻蚀后最终转变为氧化铜、氧化亚铜及少量单质铜的共存状态。研究结果将对氧化铜深度剖析中化学状态的判断具有重要参考价值。

引用

页码：535 / 540

页数：6