介质分界面电荷积聚过程分析

被引:20
作者
汪沨
肖登明
陈庆国
邱毓昌
机构
[1] 西安交通大学电力设备电气绝缘国家重点实验室!
[2] 西安
关键词
绝缘子; 表面电荷; 电荷积聚;
D O I
暂无
中图分类号
TM213 [气体电介质];
学科分类号
摘要
建立了电压与绝缘子表面电荷分布的动态方程 ,分析了直流电压作用下表面电荷的积聚过程 ,并给出了绝缘子表面电荷动态分布的近似表达式 .研究表明 ,以往文献中给出的平板电极结构介质分界面处的表面电荷积聚方程只是文中方程的一个特例 .引入了具有长度量纲的电压 /场强比例系数 ,并在此基础上计算了 3种典型电极算例的表面电荷分布 ,理论计算结果与以往文献的实验结果基本吻合
引用
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页码:347 / 350+369 +369
页数:5
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共 2 条
[1]   对绝缘子表面电荷积聚机理的讨论 [J].
刘志民 ;
邱毓昌 ;
冯允平 .
电工技术学报, 1999, (02) :65-68
[2]  
GIS装置及其绝缘技术.[M].邱毓昌主编;.水利电力出版社.1994,