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钛合金表面离子束增强沉积MoS2基膜层及其性能
被引：14
作者：
刘道新
唐宾
陈华
何家文
机构：
[1] 西北工业大学民航工程学院!西安
[2] 太原理工大学表面工程研究所!太原
[3] 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室!西安
来源：
关键词：
钛合金;
离子束增强沉积;
MoS2复合膜;
摩擦磨损;
微动疲劳;
喷丸强化;
D O I：
10.19476/j.ysxb.1004.0609.2001.03.024
中图分类号：
TG174.44 [金属复层保护];
学科分类号：
摘要：
将离子束增强沉积 (IBED)技术与离子束溅射沉积技术相结合 ,在钛合金表面制备了MoS2 ,MoS2 Ti复合膜。研究了膜层的形态、结构、膜基结合强度、硬度、摩擦学性能及抗微动 (fretting)损伤性能。结果表明 :所获膜层较纯溅射膜结合强度高、致密性好 ,复合膜中允许的金属元素含量大。通过恰当地控制复合膜中Ti的含量 ,可获得以 (0 0 2 )基面择优取向的MoS2 Ti复合膜 ,该膜层有较好的减摩和抗磨综合性能 ,能够显著地改善钛合金的常规磨损、微动磨损 (FW )和微动疲劳 (FF)性能 ,特别是在磨损严重的大位移整体滑移条件下 ,MoS2 Ti复合膜对钛合金FF抗力的提高作用可大于喷丸形变强化处理。
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页数：7
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