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微光刻中的驻波效应研究
被引：6
作者：
冯伯编
张锦
范建兴
陈芬
机构：
[1] 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
来源：
关键词：
驻波效应；光刻技术；模拟;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
080508 [光电信息材料与器件];
摘要：
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻，特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响；分析了驻波强度分布；根据抗蚀剂的物理和化学机制，建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型，并开展了计算机模拟和光刻曝光实验；研究了减小驻波效应的方法；给出了部分模拟和实验结果。
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页数：10
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