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2秒圆刻机的基本原理[J]. 邹自强.光学机械. 1983(02)
论纳米光栅测量技术
被引：16
作者：
邹自强
机构：
[1] 标普纳米测控技术股份有限公司BIUPE,北京
来源：
关键词：
纳米计量光栅;
纳米测量;
莫尔条纹;
细分误差;
纳米机械;
D O I：
10.13494/j.npe.2004.002
中图分类号：
TH714 [时间计量仪器];
学科分类号：
摘要：
作者及其同事们经过 2 0多年努力将计量光栅技术提高到了纳米量级和亚纳米量级 ,并进行了大面积推广应用 ,形成了一整套纳米光栅测量技术 ,该文为对这套技术的综合论述 .首先回顾了刻线技术的发展历史 ,指出中国古代曾作出杰出贡献 .归纳了发展计量光栅技术的 5个阶段和 4项内容 .给出纳米光栅的定义和两个特点 ,并通过作者和同事们的光栅制造过程说明 ,纳米光栅实质上是一种刻录、固化到光栅基体上的光波波长 .它为纳米测量领域提供了一种新途径、新方法 ,与激光干涉仪等现有纳米测量方法相比 ,具有自己独特的优点 .文中讨论了纳米光栅的读取技术与信号处理技术 ,提出了纳米光栅细分误差的错位测量法 .还讨论了与纳米光栅相关的纳米机械 ,介绍了作者和同事们的科研成果 ,圆柱、导轨等的机械精度已经进入了纳米量级 .最后讨论了纳米光栅与激光干涉仪以及高等级量块的比对结果
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