集成电路中的多层布线技术

被引:2
作者
张沈军
机构
[1] 机械电子工业部所
关键词
平坦化; 涂布法; SiO; 电迁移现象; 介质膜; 干法刻蚀; 多层布线; 互连工艺; 电极孔;
D O I
10.13290/j.cnki.bdtjs.1991.02.004
中图分类号
学科分类号
摘要
本文参考了国外近期一些有关资料,结合实际经验,对国外目前多层布线的几种方法以及今后发展趋势作了综合论述,同时对国内的多层布线技术的今后发展方向提出一些看法。
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共 2 条
[1]   用于LSI的双层布线工艺研究 [J].
张沈军 .
微处理机, 1990, (02) :40-44
[2]  
..Dipankar Pramanik;.Solid State Technology.1990,