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集成电路中的多层布线技术
被引:2
作者
:
张沈军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
机械电子工业部所
张沈军
机构
:
[1]
机械电子工业部所
来源
:
半导体技术
|
1991年
/ 02期
关键词
:
平坦化;
涂布法;
SiO;
电迁移现象;
介质膜;
干法刻蚀;
多层布线;
互连工艺;
电极孔;
D O I
:
10.13290/j.cnki.bdtjs.1991.02.004
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文参考了国外近期一些有关资料,结合实际经验,对国外目前多层布线的几种方法以及今后发展趋势作了综合论述,同时对国内的多层布线技术的今后发展方向提出一些看法。
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页码:17 / 23
页数:7
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共 2 条
[1]
用于LSI的双层布线工艺研究
[J].
张沈军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东北微电子研究所
张沈军
.
微处理机,
1990,
(02)
:40
-44
[2]
..Dipankar Pramanik;.Solid State Technology.1990,
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[J].
张沈军
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机构:
东北微电子研究所
张沈军
.
微处理机,
1990,
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