等离子体聚合四丁基锡薄膜的制备和结构

被引：2

作者：

周坤，周瑞花，曹伟民

机构：

[1] 中国科学院成都有机化学研究所

来源：

合成化学 | 1995年 / 02期

关键词：

等离子体聚合，四丁基锡，沉积规律，共混膜;

D O I：

10.15952/j.cnki.cjsc.1995.02.012

中图分类号：

O627.42 [锗族元素有机化合物];

学科分类号：

070303 ; 081704 ;

摘要：

研究了Ａｒ和Ａｒ／Ｏ＿２混合气携带四丁基锡的等离子体聚合规律和膜的组成、结构，分别得到低碳氢含量的金属Ｓｎ和ＳｎＯ＿ｘ共混膜。

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共 1 条

[1] 六甲基二硅胺烷的等离子体聚合 [J].

周坤粦 ;

曹伟民 ;

周瑞花 .

合成化学, 1993, (04) :356-363