石墨烯薄膜的光化学还原制备与表征

被引：3

作者：

李冰 ^{[1
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高峰 ^{[1
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杨光敏 ^{[1
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田苗苗 ^{[1
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曲雪松 ^{[1
]}

张昕彤 ^{[2
]}

机构：

[1] 长春师范大学物理学院

[2] 东北师范大学紫外光发射材料与技术教育部重点实验室

来源：

高等学校化学学报 | 2014年 / 35卷 / 12期

关键词：

光化学还原; 氧化石墨烯; 发光性质;

D O I：

暂无

中图分类号：

O613.71 [碳C];

学科分类号：

070301 ; 081704 ;

摘要：

采用光化学还原方法制备了图案化的石墨烯薄膜.研究了光还原氧化石墨烯薄膜(PRGO)的热稳定性和发光性质.热重分析(TGA)结果表明,光化学还原主要引起氧化石墨烯(GO)氧化基团的减少,而对GO内水含量影响较小;发光(PL)测试结果表明,不同激发条件下,PRGO的发光与GO相比表现出了不同的变化规律:在波长514 nm的光激发下,PRGO的发光强度比GO明显降低,同时伴随着发光峰峰位红移;而在波长830 nm的光激发下,PRGO的发光强度比GO略有增强,并且发光峰峰位无明显变化,此结果表明不同尺寸的碳团簇局域态(sp2C团簇)的光还原反应活性不同,这与GO特殊的能带结构密切相关.

引用

页码：2612 / 2615

页数：4

共 4 条

[1] 氮掺杂石墨烯的制备及氧还原电催化性能 [J].