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利用(110)硅片制作体硅微光开关的工艺研究
被引：3
作者：
张龙
董玮
张歆东
刘彩霞
陈维友
徐宝琨
机构：
[1] 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区长春,长春,长春,长春,长春,长春
来源：
关键词：
微反射镜;
{111}面;
湿法腐蚀;
粗糙度;
氢氧化钾溶液;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
采用基于湿法腐蚀工艺的体硅微机械加工方法 ,利用 (110 )硅片结晶学特性 ,通过光刻、反应离子刻蚀和湿法刻蚀等工艺 ,在硅片上同时制作出微光开关的微反射镜结构、悬臂梁结构、扭臂梁结构和光纤定位槽结构 ,器件的一致性好 ,制作工艺简单 .利用扇形定位区域 ,精确地沿 (110 )硅片的 { 111}面进行定向腐蚀 ,可使微反射镜镜面垂直度达到 90± 0 .3°,经测量表面粗糙度低于 6 nm.
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