关于MoSi2氧化相低温化学稳定性图的建立与分析

被引:6
作者
张厚安
庞佑霞
李颂文
刘心宇
机构
[1] 湘潭工学院机械工程与自动化系!湘潭
关键词
MoSi2; 低温氧化; 化学稳定性图;
D O I
10.13373/j.cnki.cjrm.2000.06.006
中图分类号
O614 [金属元素及其化合物];
学科分类号
摘要
从热力学角度建立了MoSi2 氧化相的低温化学稳定性图 ,并对实验现象进行了分析。建立的MoSi2 氧化相的低温化学稳定性图阐明了MoSi2 材料低温氧化生成物与温度、氧分压之间的关系 ;可较好地解释实验现象和结果 ;并指出减少MoSi2 材料的内部缺陷 ,使扩散至界面的氧分压维持较低数值 ,可避免生成挥发性MoO3相 ,从而防止材料的“PEST”现象。
引用
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页码:423 / 426
页数:4
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共 5 条
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