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Bi4Ge3O12晶体线性电光效应的稳定性分析
被引:10
作者
:
谢克诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
四川压电与声光技术研究所
谢克诚
机构
:
[1]
四川压电与声光技术研究所
来源
:
压电与声光
|
1990年
/ 04期
关键词
:
线性电光效应;
BGO;
警克尔效应;
Bi4Ge3O;
晶体;
外加电压;
直流电压;
Ge;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文介绍了我所用提拉法生长的Bi4Ge3O12晶体线性电光效应的稳定性情况,给出了实验结果,并对实验中影响线性电光效应稳定性的一些因素进行了分析.
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页码:46 / 51
页数:6
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