微细金属图形制作中的剥离技术

被引：22

作者：

王文如

杨正兵

机构：

[1] 四川压电与声光技术研究所!重庆

来源：

压电与声光 | 2001年 / 01期

关键词：

剥离; 剥离方法; 实例;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

摘要：

介绍了用于微细金属图形制作中的剥离技术的一些基本要求 ,同时简述了常用的几种剥离方法、简单原理及一些具体应用实例

引用

收藏

页码：68 / 73

页数：6

相关论文

共 4 条

[1] 适用于剥离工艺的光刻胶图形的制作技术及其机理讨论
韩阶平
侯豪情
邵逸凯
[J]. 真空科学与技术, 1994, (03) : 215 - 219
[2] 半导体工艺.[M].(美)K.A.杰克逊(KennethA.Jackson)主编;屠海令等译校;.科学出版社.1999,
[3] 薄膜科学与技术手册.[M].田民波;刘德令编译;.机械工业出版社.1991,
[4] H oechst celanese..Spak M A; Mammato D; Durham D; et al;..1990,