TiO2薄膜的制备及结构研究

被引:19
作者
孟宪权
王君
何磊
范湘军
机构
[1] 武汉大学物理系加速器实验室
关键词
衬底温度; 工作气压; 溅射; 真空沉积; TiO2; 减反射膜; 光学增透膜; 锐钛矿相; 金红石相;
D O I
暂无
中图分类号
O484.1,O484.1 [];
学科分类号
080501 ; 1406 ;
摘要
本文探讨了用平面磁控溅射法制备TiO2薄膜.研究了TiO2薄膜结构随溅射条件(衬底温度、氧分压、工作气压)的变化.用X射线衍射(XRD)测薄膜结构,用X射线光电子能谱(XPS)测薄膜钛氧成分比.得到了制备金红石相和锐钛矿相TiO2薄膜的最佳工艺参数.
引用
收藏
页码:44 / 48
页数:5
相关论文
共 2 条
[1]   TiO薄膜氧敏特性研究 [J].
姚红军 ;
汪荣昌 ;
戎瑞芬 ;
徐飞 ;
金海岩 .
半导体学报, 1997, (10) :761-764
[2]   用MOCVD方法生长二氧化钛膜的研究 [J].
金海岩 ;
黄长河 .
半导体学报, 1997, (02) :97-102