化学还原法制备纳米级Ag粉高分子保护机理研究

被引：25

作者：

张宗涛

赵斌

胡黎明

石庆红

袁留锁

机构：

[1] 华东理工大学国家超细粉末工程研究中心

来源：

化学学报 | 1996年 / 04期

关键词：

纳米级粉末; Ag; 高分子保护机理; 化学还原;

D O I：

暂无

中图分类号：

O643.3 [催化];

学科分类号：

081705 ;

摘要：

本文研究了化学还原法制备纳米级Ag粉的高分子保护机理,实验结果显示聚乙烯基吡咯烷酮（PVP）能有效地阻止颗粒团聚并降低Ag晶粒尺寸,得到近单分散200nm以下的Ag粉.PVP的保护机制为:第一步,PVP与Ag+形成配位键.第二步,配位键促进Ag颗粒成核.第三步,形成大量小晶核使Ag颗粒平均尺寸减小,而PVP吸附在Ag颗粒表面形成位阻效应阻止了颗粒团聚.

引用

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